高分辨率顯微鏡載玻片靶

產(chǎn)品型號：
更新時(shí)間：2026-02-07
產(chǎn)品介紹：高分辨率顯微鏡載玻片靶采用高精度電子束光刻技術(shù)設(shè)計(jì)。這些圖案蝕刻在光譜透射范圍廣泛（DUV-VIS-NIR）的 10 × 10mm² 熔融石英基底上，在該襯底上施加高光密度的鉻層。通過去除鉻層，形成尺寸低 100nm 的圖案。本產(chǎn)品提供優(yōu)異的尺寸穩(wěn)定性，并安裝在金屬顯微鏡載玻片支架中。每個(gè)靶上的負(fù)片圖案允許結(jié)構(gòu)透明，而背景被鉻層阻擋。
廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商
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產(chǎn)品介紹

品牌	其他品牌	價(jià)格區(qū)間	1萬-5萬
組件類別	光學(xué)元件	應(yīng)用領(lǐng)域	醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子/電池

高分辨率顯微鏡載玻片靶

Ø小圖案尺寸 - 100nm 和 3300 lp/mm

Ø采用高精度電子束光刻技術(shù)制作

Ø負(fù)片圖案設(shè)計(jì)

高分辨率顯微鏡載玻片靶采用高精度電子束光刻技術(shù)設(shè)計(jì)。這些圖案蝕刻在光譜透射范圍廣泛 (DUV-VIS-NIR) 的 10 × 10mm² 熔融石英基底上，在該襯底上施加高光密度的鉻層。通過去除鉻層，形成尺寸低 100nm 的圖案。高分辨率顯微鏡載玻片靶提供優(yōu)異的尺寸穩(wěn)定性，并安裝在金屬顯微鏡載玻片支架中。每個(gè)靶上的負(fù)片圖案允許結(jié)構(gòu)透明，而背景被鉻層阻擋。

高分辨率顯微鏡載玻片靶

高分辨率顯微鏡美國空軍USAF測試目標(biāo)板可輕松確定透射光中物鏡的分辨率極限，并由 59 個(gè)圖案組成，水平和垂直排列的線圖案為 7.5 3300 lp/mm。該測試目標(biāo)板還具有 5 個(gè)直徑在 4.0-0.25μm 之間的針孔，可用于微成像光學(xué)元件的詳細(xì)表征。

高分辨率顯微鏡星測試目標(biāo)板

高分辨率顯微鏡星測試目標(biāo)板由 5 顆西門子星組成，其特點(diǎn)是星中心的錐形部分制造的小寬度為 150nm。該測試目標(biāo)板非常適合于確定具有非常高數(shù)值光圈的顯微鏡物鏡的分辨率。

高分辨率顯微鏡檢查板

高分辨率顯微鏡檢查板的特點(diǎn)是 50 x 50 平方微米的正方形總尺寸為 9.0 x 9.0 平方毫米。檢查板非常適合于測試圖像歪斜和曲率，以及確定由于直線和銳邊導(dǎo)致的圖像質(zhì)量。

高分辨率顯微鏡載玻片靶通用規(guī)格

Pattern Tolerance:	100nm/cm = 10-5
光密度 OD:	OD>8 @ 400nm, 6 @ 550nm, 4.5 @ 750nm, 3.6 @ 1000nm
光譜范圍:	200 - 2000nm
基底:	Fused Silica w/Chrome deposit
尺寸 (mm):	10 x 10 x 1
構(gòu)造 :	Stainless Steel, 75 x 25 x 1.5mm, microscope slide format

訂購信息：

標(biāo)題	產(chǎn)品號
High Res Microscopy Star Target	#37-538
High Res Microscopy USAF Target	#37-539
High Res Microscopy Checker board	#37-540

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